コメント
「版画技法を使った抽象表現で、私は線、点または有機的なテクスチャー、そして色彩の関係のなかで美を追求している。それらの衝突や対比によってできる緊張感あるかたちをクローズアップしている。
ニューヨークに滞在した一年間、今まで自分が日本で取組んだ方法や観念をゼロにして過ごした。自分自身の根底にある何かを見つけたかったからである。多くの出会いや刺激の中で、私の求めるかたちは、飾らないありのままのものに変わってきた。」(作家コメント「わたしのかたち」『版画年鑑2000』阿部出版より)
略歴
- 1963年
- 北海道に生まれる
- 1991年
- 東京造形大学造形学部美術学科研究生修了
- 1991年
- クラコウ国際版画トリエンナーレ(ポーランド)
- 1993年
- 第20回リュブリアナ国際版画ビエンナーレ
- 1994年
- 個展(銀座九美洞ギャラリー・銀座)、第1回ビトラ国際版画トリエンナーレ(97年も)
- 1995年
- 個展(ギャラリーなつかb.p.・銀座、ギャラリー219・中目黒、96、97、98、99年も)、第24回現代日本美術展(東京都美術館他、96、97年も)、第1回ソフィア国際版画トリエンナーレ・98年佳作賞
- 1998年
- 第5回ベオグラード国際版画ビエンナーレ(ユーゴスラビア)、第2回東京国際ミニプリントトリエンナーレ(東京)
1998-99年 財団法人ポーラ美術振興財団若手美術家在外研修・ニューヨーク滞在
- 1999年
- 「Printmaking & Photo processes」(ニューヨーク)、第12回ノルウェー国際版画トリエンナーレ(ノルウェー)
作品紹介
《Relative Field No.7 98 (lines,dots)》
1998年 98×130cm
リトグラフ